Base de Maquillaje Triclone Skin Tech™ Medium Coverage with Fermented Arnica - HAUS LABS

Una base ligera y de cobertura media con árnica fermentada que ayuda a reducir el enrojecimiento y protege del estrés ambiental. Elaborada con más de 20 ingredientes para el cuidado de la piel, esta fórmula patentada ofrece un rendimiento ultra cómodo y de larga duración sin comprometer la piel. Su textura ingrávida, similar a un suero, difumina y suaviza perfectamente para un acabado natural y luminoso que dura todo el día. Sin resbalones ni apelmazamiento. Este producto es un ganador del premio Allure Best of Beauty. Hipoalergénica  Acabado natural Ganador del premio Allure Clean Beauty 2023  Larga duración  Cruelty free   Características - Árnica Fermentada: ayuda a reducir visiblemente el enrojecimiento y la irritación. - Intellizen 7 Complex™: mezcla patentada de hierbas medicinales que promueven la curación y la calma. - BioFerment 7 Complex™: Mezcla patentada de súper antioxidantes que protegen la piel del estrés.