F04300 - SEMI F43 - ユースポイントガス精製器およびガスフィルタによるパーティクルに対する寄与度を定量化するための試験方法

本スタンダードは，Gases Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2013年6月4日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2013年6月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は1999年6月発行。前版は2008年3月発行。 　 本文書の目的は，高純度ガス分配システムおよび半導体製造プロセス装置に搭載するPOU精製器およびフィルタの試験方法について定義することである。この試験方法を適用することにより，搭載の検定試験時に種々のPOU精製器およびフィルタの間で比較可能なデータを得ることができる。 　 本文書では，標準状態のもとでPOU精製器およびフィルタのパーティクル発生性能の比較を行うために考案された試験方法について説明する。この手順では，一般に半導体用途のインラインガスフィルタおよび精製器に適用されている凝縮核カウンタ（CNC）を利用する。本試験方法は，室温で動作させる様々な種類の機能部品に適用される。精製器の定格フローは，0～50標準リットル／分（slm）の範囲内でなければならない。フィルタにおける流量は 0～100 標準リットル／分（slm） の範囲でなければならない。<0} 本方法をより大流量の機能部で使用する場合,試験パラメータは製造業者とユーザで合意しておかなければならない。 　 この方法で説明されている実験構成は，POU精製器および独立設置のPOUフィルタを試験する場合に使用することができる。 　 Referenced SEMI Standards SEMI E49.8 — Guide for High Purity and Ultrahigh Purity Gas Distribution Systems in Semiconductor Manufacturing Equipment SEMI F19 — Specification for the Surface Condition of the Wetted Surfaces of Stainless Steel Components SEMI F70 — Test Method for Determination of Particle Contribution of Gas Delivery System