P01000 - SEMI P10 - フォトマスクオーダーのデータ構造の仕様

本スタンダードは，global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2008年5月13日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2006年6月にwww.semi.orgで，そして2008年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1990年発行，前版は2007年7月に発行された。   このデータ構造仕様は，ソフトウェアシステム間でのマスクオーダーデータの伝送を促進し，次のものを可能にする： ·       マスクユーザによる自動的なオーダー入力，そしてマスク業者によるそのオーダーの自動的処理。 ·       マスクショップによる実際のマスク結果と品質データの自動的なオーダー，そしてマスクユーザによるそのデータの自動処理。   この標準化されたデータ構造を用いてマスクユーザまたはマスク業者のどちらかに対し，それぞれ独立に書かれたソフトウェアを他のグループによって書かれたソフトウェアと確実に通信できるようにすべきである。　Referenced SEMI StandardsSEMI P1 — Specification for Hard Surface Photomask SubstratesSEMI P2 — Specification for Chrome Thin Films for Hard Surface PhotomasksSEMI P4 — Specification for Round Quartz Photomask SubstratesSEMI P5 — Specification for PelliclesSEMI P6 — Specification for Registration Marks for PhotomasksSEMI P21 — Guidelines for Precision and Accuracy Expression for Mask Writing EquipmentSEMI P22 — Guideline for Photomask Defect Classification And Size DefinitionSEMI P24 — CD Metrology ProceduresSEMI P29 — Guideline for Description of Characteristics Specific to Halftone/Attenuated Phase Shift Masks and Mask BlanksSEMI P35 — Terminology for Microlithography MetrologySEMI P37 — Specification for Extreme Ultraviolet Lithography Mask SubstratesSEMI P38 — Specification for Absorbing Film Stacks and Multilayers on Extreme Ultraviolet Lithography Mask BlanksSEMI P39 — Specification for Open Artwork System Interchange Standard (OASIS)SEMI P43 — Photomask Qualification Terminology