P03500 - SEMI P35 - マイクロリソグラフィメトロロジの用語法

本スタンダードは，global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版はglobal Audits and Reviews Subcommitteeで2006年8月24日に発行が承認された。2006年10月にwww.semi.orgで， そして2006年11月にCD-ROMで入手可能となる。初版は2000年2月発行，前版は2004年7月に発行された。   明確で普遍的に受入れられる定義が，メトロロジ機器の買手と売手の間で効果的に意思を疎通し誤解を防ぐために必要となる。本書の目的は，マイクロリソグラフィで重要なメトロロジに関する問題を理解し論議するために，一貫性のある用語を提供することである。　Referenced SEMI StandardsSEMI E89 — Guide for Measurement System Analysis (MSA) SEMI P28 — Specification for Overlay-Metrology Test Patterns for Integrated-Circuit Manufacture