P04000 - SEMI P40 - 極紫外線リソグラフィマスクの取り付けに関する要求条件およびアライメント基準位置の仕様

本スタンダードは，Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので，North American Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は，2003年9月3日North American Regional Standards Committeeにて承認されている。2003年9月にまずwww.semi.orgで入手可能になり，2003年11月発行に至る。   この仕様は，極紫外線リソグラフィ（EUVL）のマスクの取り付けに関する要求条件について記載する。  　Referenced SEMI StandardsSEMI P37 — Specification for Extreme Ultraviolet Lithography Mask Substrates SEMI P38 — Specification for Absorbing Film Stacks and Multilayers on Extreme Ultraviolet Lithography Mask Blanks