C00300 - SEMI C3 - ガスの仕様

本スタンダードは，global Gases Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2012年6月18日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2012年8月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は1981年発行。前版は1999年6月発行。 重要な注意：この仕様は未完成である。未完成な箇所には「未定」と注意書きが付されている。The Gases Technical Committeeは半導体産業へのサービスとして完成前に本書の出版に合意した。 半導体製造におけるガス不純物の内容の重要さを認識して，サプライヤは，特に微量不純物に対しては，改善された分析的特性付与法を用いた製品を売り出すことでそれに応えた。 SEMIガス委員会は1979年の春にその活動を始めた。本書を出版することで，委員会は目次にリストアップされているガスに対する定義，一般的手順，仕様，および分析手順を制定した。 全ての要求条件に適合している製品に対しては，「SEMI仕様適合］と表記することができる。 規定されたものと異なる分析手順をサプライヤまたはユーザが代表する場合には，これが規定のものと等価であることを確認する試験の責任は当該サプライヤまたはユーザにある。指定分析方法を決定する場合には，基準に関する下記リストを考慮するよう注意すべきである。 信頼性 使い易さ 保守 精度 正確度 感度 多用途性 装置の有用性 本書により与えられた仕様は，半導体や高度電子デバイスおよび電子回路の製造やプロセスに使用されるガスを扱う際に役立つように考えられている。仕様および関連試験手順は，サプライヤおよびユーザの経験に基づいたガイドラインである。仕様としての機能は所要の良質スタンダードを制定することである。 可能ならば，仕様の内容においては，数値的限度をモル/モルの単位を付して表示しなければならない。 主要構成要素に対しては，数値は（分析評価または純度）最低許容限度を表示しなければならない。不純物に対しては，最大許容限度を表示しなければならない。 この仕様に従ったガスは，一般に最低許容限度よりも多い主要構成要素を包含しているか，またはSEMI C3「ガス許容限度」の仕様に示されているものよりも少ない不純物を包含している。何れの場合でも，ガスはこの仕様によって定義されたものよりも高品質のものと考えてはならない。 存在する可能性のある全ての不純物または汚染物質を考慮するのは実際的ではない。ある場合においては，より厳しい仕様または手順またはそれらの追加が必要になるかも知れないことが認められている。これらの仕様と関連手順の目的は，ガスが半導体デバイスの製造とプロセスにおける一般的使用に適合していることを保証することと，そのガスに対する最新の製造プロセスを首尾一貫させることである。 委員会は，仕様と手順の改善や混合ガスなどのその他のガスおよびシステムを追加するために，この仕事を現在も続行している。委員会はコメント，提案勧告を歓迎している。 Referenced SEMI StandardsNone.