F02800 - SEMI F28 - プロセスパネルからのパーティクル発生を測定するテスト方法

本スタンダードは，global Gases Committeeで技術的に承認されている。現版は2010年4月30日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2010年6月にwww.semi.orgで入手可能となる。初版は1997年発行。前版は2003年11月発行。   本文書の目的は，高純度ガス配分システム中に設置されるプロセスパネルのテスト方法を定義することである。このテスト方法を応用すれば，この設置に必要な適格性に関してテストされたプロセスパネル相互間で比較可能なデータを得ることができると予想される。   本文書は，プロセスパネルのパーティクル発生性能を比較するテスト方法を説明する。このテスト方法は，プロセスパネルの清浄度を「受け取られたまま」の状態および正常稼働状態で評価する。「受け取られたまま」の状態でのテストが意図するのは，ユーザがプロセスプロセスパネルメーカーの製作，清浄化，および包装の技術を評価できるようにすることである。実際の稼働状態でのテストが意図するのは，ユーザがメーカーの部品選択およびパネル設計の品質を評価できるようにすることである。両方のテスト方法に記述された規定流量は，典型的なプロセスパネルのための比較的大きな流量の条件を表現している。　Referenced SEMI StandardsNone.