M03400 - SEMI M34 - SIMOXウェーハを規定するための指針

この指針は，半導体装置の製造に用いられる厚さ0.5 μm以下のシリコンフィルムを持つSIMOX（酸素の注入による分離）ウェーハの仕様のためのものである。これらの仕様は，SIMOX SOIウェーハの包括的な特性を定めている。計測されたパラメータに対する特定値は，適用のためユーザとサプライヤとの間の合意によって決定される。パラメータ，検査要領及び合格基準を定めることにより，ユーザとサプライヤは共に，一律に製品特性及び品質の要求条件を決めることができる。　Referenced SEMI StandardsSEMI M1 — Specifications for Polished Monocrystalline Silicon Wafers SEMI M22 — Specification for Dielectrically Isolated (DI) Wafers