M04900 - SEMI M49 - 130 nmから65 nmへの技術世代のシリコンウェーハ用ジオメトリ測定システム規定のためのガイド

本ガイドはInternational Technology Roadmap for Semiconductors： 1999 edition （ITRS）によって予測され，主要半導体デバイスメーカーが計画している，130，90，65 nm技術世代のシリコンウェーハのジオメトリおよび平坦度についての測定システムを規定するための推奨事項を提供するものである。SEMI M1，SEMI M8，SEMI M11，SEMI M24，SEMI M38に定義されているウェーハのパラメータは，シリコンウェーハ・サプライヤにとっては顧客によって指定され，通常適合性証明の一部となる。シリコンウェーハ・サプライヤおよび顧客は，これらのパラメータを，異なるメーカーの装置を使用するか，あるいは同じサプライヤでも異なる世代の装置を使用して測定することがある。測定システムの基本的な特徴および能力に関する合意は，適切なシステムの調達と同様，データ交換およびデータ解釈を改善する。 Referenced SEMI Standards SEMI E1.9 — Mechanical Specification for Cassettes Used to Transport and Store 300 mm WafersSEMI E5 — Specification for SEMI Equipment Communications Standard 2 Message Content (SECS-II)SEMI E10 — Specification for Definition and Measurement of Equipment Reliability, Availability, and Maintainability (RAM) and UtilizationSEMI E19 — Specification for Standard Mechanical Interface (SMIF)SEMI E30 — Specification for the Generic Model for Communications and Control of Manufacturing Equipment (GEM)SEMI E37 — High Speed SECS Message Services (