P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様

本仕様は，global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2005年9月8日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2005年10月にwww.semi.orgで，そして2005年11月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1997年9月に発行された。   注意：　本文書は2005年，全面的に改訂された。   本仕様は，減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク ； 以下省略）およびマスクブランクスに特有な特性について記載する。 　Referenced SEMI StandardsSEMI P1 — Specification for Hard Surface Photomask SubstratesSEMI P22 — Guideline for Photomask Defect Classification and Size Definition