P03700 - SEMI P37 - 極紫外線リソグラフィマスク基板の仕様
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本スタンダードは，Global Micropatterning Committeeで技術的に承認されたもので，North American Micropatterning Committeeが直接責任を負うものである。現版は，2002年8月29日 North American Regional Standards Committeeに承認された。2002年9月にまずwww.semi.orgで入手可能となり，2002年11月発行に至る。初版は2001年11月。 本仕様は，極紫外線リソグラフィ（EUVL）マスク用の基板に関する一般的要求条件を記述している。 Referenced SEMI StandardsNone.
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