P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様
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本スタンダードは，global Micropatterning Committeeで技術的に承認されている。現版は2009年5月13日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2009年6月にwww.semi.orgで，そして2009年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は2005年11月に発行，前版は2008年11月に発行された。 本文書は，OASISをベースとするマスク装置の共通マスクデータフォーマットである「OASIS.MASK」の仕様を定義する。 Referenced SEMI StandardsSEMI P39 — OASIS® – Open Artwork System InterchangeStandard
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