M07700 - SEMI M77 - ロールオフ量（ROA）を使ってウェーハのエッジ近傍形状を決定するための作業方法

本スタンダードは，global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は2010年8月27日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2010年10月にwww.semi.orgで入手可能となる。   ウェーハエッジ近傍形状は半導体デバイス工程の歩留りに大きく影響する。   エッジ近傍の幾何学的特性情報は製造者や消費者がウェーハの寸法特性が与えられた幾何学的要求を満たしているかどうか決定することを手助けできる。   ROA（Roll-Off Amount）法は半導体デバイス工程で使われるウェーハのエッジ近傍形状を定量化するのに適している。   この作業法または提案されたエッジ近傍形状評価法は，材料購入仕様に使うよりむしろ，プロセスを管理するツールとして使うことに留意すべきである。   　 Referenced SEMI StandardsSEMI M1 — Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers SEMI M20 — Practice for Establishing a Wafer Coordinate System SEMI M59 — Terminology for Silicon Technology